HISTOMER Восстанавливающая маска, линия LEVIOSA марки HISTOMER: состав | GlowCheck

HISTOMER Восстанавливающая маска, линия LEVIOSA марки HISTOMER

HISTOMER · Маска

Состав (38)

Вода, Этилгексилстеарат, Каолин, Глицерин, Цетеариловый спирт, Арахидиловый спирт, Глицерилстеарат, Цетеарилизононаноат, Масло сладкого миндаля, Бегениловый спирт, Диоксид титана, Цетилфосфат калия, Гександиол, Полиакрилатный сополимер-6, Арахидилглюкозид, Гидроксиацетофенон, Отдушка, Ксантановая камедь, Acrylates/Palmeth-25 Acrylate Copolymer, Solanum Lycopersicum Fruit Lipids, Каприлилгликоль, Каприлгидроксамовая кислота, Этилгексилглицерин, Ацетат токоферола, Масло ши, Лецитин, Гидроксид натрия, Стевиозид, Тетранатрия глутамат диацетат, Витамин E, Гиалуронат натрия, Аскорбилпальмитат, Triticum Vulgare Sprout Extract, Hordeum Vulgare Sprout Extract, Бутиленгликоль, Лимонная кислота, CENTELLA ASIATICA LEAF VESICLES, DNA

1 из 38 компонентов пока нет в нашем справочнике, мы показываем их как есть.

Подходит ли это средство тебе

GlowCheck сверяет состав с тем, что ты о себе указала: тип кожи, склонность к акне, аллергии и то, чего ты избегаешь. Мы не делим косметику на «вредную» и «безопасную», говорим только о фактах состава и о том, что из них касается лично тебя.

Другие средства HISTOMER

Все средства: Маска