OKOLO Очищающая маска-мусс для лица Hemp Clean Mask: состав | GlowCheck

OKOLO Очищающая маска-мусс для лица Hemp Clean Mask

OKOLO · Очищение

Состав (26)

Вода, Каприловый/каприновый триглицерид, Пропандиол, Глицерин, Бутиленгликоль, Крахмал полиакрилат натрия, Масло конопли, Целлюлоза, Цетеариловый спирт, Глицерилстеарат, ПЭГ-100 стеарат, Гидроксиацетофенон, Гександиол, Каприлилгликоль, Отдушка, Ксантановая камедь, Enantia Chlorantha Bark Extract, Лимонная кислота, Этилгексилглицерин, Подсолнечное масло, Витамин E, Пентиленгликоль, Краситель жёлтый закат, Краситель жёлтый 5, Краситель синий 1, Олеаноловая кислота

Подходит ли это средство тебе

GlowCheck сверяет состав с тем, что ты о себе указала: тип кожи, склонность к акне, аллергии и то, чего ты избегаешь. Мы не делим косметику на «вредную» и «безопасную», говорим только о фактах состава и о том, что из них касается лично тебя.

Другие средства OKOLO

Все средства: Очищение