UNILEVER JAPAN CO., LTD. Продукция косметическая по уходу за волосами маска LUX Super Rich Shine Moisture: состав | GlowCheck

UNILEVER JAPAN CO., LTD. Продукция косметическая по уходу за волосами маска LUX Super Rich Shine Moisture

UNILEVER JAPAN CO., LTD. · Маска для волос

Состав (32)

Цетеариловый спирт, Behentrimonium Chloride, Глицерин, Диметикон, Дипропиленгликоль, Цетилпальмитат, Масло жожоба, Гидролизованная гиалуроновая кислота, Гиалуронат натрия, Hydrolyzed Keratin, Аргинин, масло семян склерокариавирии, Амодиметикон, Молочная кислота, Глутаминовая кислота, Tricaprylin, C12- 14) с-парет-7, Динатрия ЭДТА, Cetrimonium Chloride, пропилгептиловый эфир ПЭГ-7, C12-14)s-палат-5, Acetic Acid, Trideceth-12, диметил пальмитин, Витамин E, Бензоат натрия, Феноксиэтанол, пропинилиодид бутилкарбамат, сорбат К, Отдушка, желтый 4, красный 227

9 из 32 компонентов пока нет в нашем справочнике, мы показываем их как есть.

Подходит ли это средство тебе

GlowCheck сверяет состав с тем, что ты о себе указала: тип кожи, склонность к акне, аллергии и то, чего ты избегаешь. Мы не делим косметику на «вредную» и «безопасную», говорим только о фактах состава и о том, что из них касается лично тебя.

Другие средства UNILEVER JAPAN CO., LTD.

Все средства: Маска для волос